住建征求b,c,RGO/Cu(b)和3D-GLNN/Cu(c)的原位拉伸样品断裂裂纹宏观形貌SEM照片。
所制得MoS2单层薄膜的(e)拉曼光谱,(f)原子力显微镜图片，部发布加(g)荧光光谱以及(f)HAADF-STEM图片。氢站反应残余物的(e)XRD谱和(f)拉曼光谱。
另外氢气会将SnO2还原为易挥发的SnO，技术局部因此我们选用了更为稳定的Al2O3作为抑制层。规范【总结与展望】本文报道了一种氧化物抑制层辅助的二维MoX2(X=S,Se,Te)单层的CVD生长方法。通过对衬底上不同位置的样品进行观察与分析，修订我们可以得到与MoS2生长相似的结论，修订较高的Mo:Se比更有利于单层MoSe2的面内生长，而较低的Mo：Se则会促进多层MoSe2的生成。
使用MoO3-S制备的MoS2样品通常会具有比较复杂的化学成分，条文不同形貌和成分的物质分级分布于衬底的不同位置。本文采用的实验装置与传统CVD生长方法几乎完全一致，住建征求只是在Mo源上方覆盖了一层致密的惰性氧化物抑制层以调控Mo蒸汽的释放。
部发布加图1.(a)氧化物辅助的MoX2生长示意图。
因此，氢站如何有效的干预反应的动力学条件是实现MoS2可控化制备必须解决的难题。中国小家电品牌要想更好地立足于市场，技术局部就必须明确能有效为之服务的、最具利润价值的细分市场，进行深入潜挖、精耕细作
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